下载半导体光刻的具有改进的部件调节的投射曝光设备、以及调节方法的技术资料

文档序号:25449072

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本发明涉及一种半导体光刻的投射影印系统(1),包括投射影印系统(1)的至少一个部件(21)和结构构件(22),其中部件(21)被附接到结构构件,并且部件(21)和/或结构构件(22)包括至少一个止动件(28,40),用于在结构构件和/或部件...
该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。

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