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公开了一种原子层沉积设备及3D存储器件，原子层沉积设备包括：进气管路，用于接收至少两种反应气体以及惰性气体；反应腔室，与所述进气管路连接；基座，位于所述反应腔室内，用于承载硅片以及对所述硅片进行加热；排气通道，与所述反应腔室连接，其中，所述...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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