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本发明公开了一种射流抛光中形成高斯型去除函数的组件及其装置，属于光学制造技术领域，包括本体，本体包括旋转轴，旋转轴下端沿轴线方向上设置有标准锥，标准锥至少有一侧倾斜设置有喷嘴，旋转轴中心设置有用于流通抛光液的入流通道，入流通道下端与喷嘴连通...
该专利属于中国工程物理研究院机械制造工艺研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国工程物理研究院机械制造工艺研究所授权不得商用。

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