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本发明提供一种光掩模、半导体器件与光掩模的设计方法。光掩模包括主图形区域和多个对位标记。主图形区域具有至少一种图形阵列。多个对位标记中的每一对位标记包括所述至少一种图形阵列中的一种或多种图形阵列。...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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