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本实用新型提供一种气体收集系统及原子层刻蚀设备，该气体收集系统，应用于原子层刻蚀设备，原子层刻蚀设备包括工艺腔室及供气管路，供气管路向工艺腔室实时供应工艺气体，包括收气管路和收气机构；收气机构通过收气管路与供气管路选择性连通；当供气管路与工...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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