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沉积掩模及其制造方法技术
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文档序号:24950158
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一个实施方案涉及用于制造用于OLED像素沉积的沉积掩模的铁(Fe)‑镍合金的金属板,其中在从金属材料的表面起15nm的深度区域中,铁(Fe)原子浓度的最大值为40原子%或更小,镍(Ni)原子浓度的最大值为25原子%或更小,以及氧(O)原子浓...
该专利属于LG伊诺特有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过LG伊诺特有限公司授权不得商用。
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