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一种用于衬底处理系统的喷头包括：下表面；面向等离子体的上表面；气体分配腔，其限定在所述下表面和所述上表面之间；以及多个注射器，其分布在所述下表面上，其中所述多个注射器与所述气体分配腔流体连通。多个通孔从所述上表面延伸到所述下表面。所述多个通...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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