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提供用于处理具有有机自由基的工件的表面处理工艺。在一个示例性实施中，用于处理具有半导体材料和含碳层(例如，光刻胶)的工件的方法可包括在工件上的表面处理工艺。表面处理工艺可包括在第一腔室(例如，等离子体腔室)中生成一种或多种核素。表面处理工艺...该专利属于马特森技术有限公司;北京屹唐半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过马特森技术有限公司;北京屹唐半导体科技有限公司授权不得商用。