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具有等离子体脉冲以防止电荷损坏的空间原子层沉积腔室制造技术
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下载具有等离子体脉冲以防止电荷损坏的空间原子层沉积腔室的技术资料
文档序号:24950067
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在等离子体增强空间原子层沉积腔室中处理基板的设备及方法。基板移动经过一或更多个等离子体处理区域及一或更多个无等离子体处理区域,同时等离子体功率被脉冲化以防止基板上的电压差超过基板的破坏电压或基板上正形成的装置的破坏电压。...
该专利属于应用材料公司所有,仅供学习研究参考,未经过应用材料公司授权不得商用。
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