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本发明公开了一种集流体。所述集流体为类石墨烯/金属膜集流体，其包括类石墨烯膜和设置于所述类石墨烯膜底部表面的金属膜，其中所述类石墨烯膜的厚度介于6‑10μm之间，所述金属层的厚度不大于5μm；所述类石墨烯膜为进行了亲水处理的石墨烯膜。本发明...
该专利属于武汉理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过武汉理工大学授权不得商用。

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