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等离子体处理装置及蚀刻方法制造方法及图纸
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下载等离子体处理装置及蚀刻方法的技术资料
文档序号:24942537
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在示例性实施方式所涉及的等离子体处理装置中,高频电源产生为了生成等离子体而被供给的高频电力。偏置电源向基板支承器的下部电极供给偏置电力。偏置电力在该周期内使基板的电位变动。高频电力在基板的电位相对较高的周期内的第1期间内的至少一部分期间内供...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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