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本实用新型公开了一种磁控溅射反应设备的叠层膜镀膜靶材挡板，包括溅射靶、挡板、支撑组件及转动机构，所述溅射靶包括第一靶材及第二靶材，所述挡板通过支撑组件可转动的固定在溅射靶上方，所述挡板左右两侧连接有转动机构，所述转动机构通过微型电机带动挡板...
该专利属于浙江工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江工业大学授权不得商用。

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