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本发明涉及一种提高靶材镀膜均匀性的方法，所述方法包括：将焊接完成的靶材依次进行整平、车削及抛光处理。本发明中，通过靶材加工工艺的改进达到去除表面应力层的目的，改善靶材在溅射初期过程中存在的镀膜均匀性不良问题，同时也提高了其在集成电路制造中阻...
该专利属于宁波江丰电子材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过宁波江丰电子材料股份有限公司授权不得商用。

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