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等离子体产生组件及等离子体处理装置制造方法及图纸
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文档序号:24871728
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本实用新型涉及一种等离子体产生组件及等离子体处理装置,所述组件用于半导体处理装置中,包括内线圈组和外线圈组;所述外线圈组包括至少两个呈环状绕制且同轴的线圈,各线圈形成独立闭合回路;任意一个外线圈组的线圈的直径,大于任意一个内线圈组的线圈的直...
该专利属于长鑫存储技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。
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