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本申请实施例提供了一种半导体工艺装置。该半导体工艺装置包括：工艺腔室、等离子体源、以及设置在工艺腔室内的调压组件及匀流组件；工艺腔室内形成有反应腔，反应腔内设置有用于承截晶圆的卡盘；调压组件设置于工艺腔室的顶板上，等离子体源通过调压组件与反...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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