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本发明公开了一种背照式光电器件的背面处理工艺，包括以下步骤：对背照式光电器件进行机械减薄，以使所述背照式光电器件的厚度达到所需厚度；采用硝酸溶液和氢氟酸溶液对机械减薄后的背照式光电器件的背面进行化学减薄和化学抛光，以使所述背照式光电器件的厚...
该专利属于清华大学;同方威视技术股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学;同方威视技术股份有限公司授权不得商用。

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