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公开了一种半导体器件，包括：半导体衬底，其包括在源极区与漏极区之间的沟道区；布置成与该沟道区相互作用的栅极结构；以及布置在该沟道区与该栅极结构之间的介电结构。介电结构包括高k介电层或高k铁电层以及与该高k介电层或该高k铁电层直接接触的至少一...
该专利属于IMEC非营利协会所有，仅供学习研究参考，未经过IMEC非营利协会授权不得商用。

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