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本发明提供一种光学器件制作方法，该方法包括：提供玻璃晶圆，并在所述玻璃晶圆的正面和背面形成掩膜层；图形化所述玻璃晶圆正面的掩所述膜层，以使所述玻璃晶圆正面的所述掩膜层具有所述光学器件的图案；以所述玻璃晶圆正面的所述掩膜层为掩膜刻蚀所述玻璃晶...
该专利属于中芯集成电路(宁波)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯集成电路(宁波)有限公司授权不得商用。

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