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本实用新型公开了一种双向进给的线性液动压抛光装置，包括机架、横向进给机构、纵向进给机构、回转抛光机构，横向进给机构用于进给工件，回转抛光机构用于抛光工件，纵向进给机构用于调节回转抛光机构的高度。本实用新型具有的优点是，纵向进给机构能够实现粗...
该专利属于浙江工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江工业大学授权不得商用。

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