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本发明公开了一种基于暗场莫尔条纹对准检测与控制的超分辨光刻装置，该装置包括精密的环控系统、主动隔振平台、支撑框架、光源、对准检测系统、掩模形变校正系统、光刻镜头模块、承片台及控制系统。该装置通过暗场莫尔条纹衍射成像技术，实现了纳米量级的在线...
该专利属于中国科学院光电技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院光电技术研究所授权不得商用。

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