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本实用新型公开了一种聚焦环及等离子体处理装置，属于半导体制造技术领域，聚焦环包括：环体，台阶部，环体于外圆的投影面方向被分成多个环部件；等离子体处理装置包括:基座，电极；上述技术方案的有益效果是：当顶针将晶圆放置于聚焦环上或者顶出聚焦环时，...
该专利属于武汉新芯集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉新芯集成电路制造有限公司授权不得商用。

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