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本实用新型公开了一种半导体加热炉,其结构包括显示屏、柜门、炉体、排放口、底座、进料口,本实用新型一种半导体加热炉,通过炉体上的进料口输送原料,使其来到炉体内进行加热加工,最后经由排放口上排放出来,在原料较多流通缓慢的时候,可以通过转动外壳上...该专利属于英迪那米(徐州)半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过英迪那米(徐州)半导体科技有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种半导体加热炉,其结构包括显示屏、柜门、炉体、排放口、底座、进料口,本实用新型一种半导体加热炉,通过炉体上的进料口输送原料,使其来到炉体内进行加热加工,最后经由排放口上排放出来,在原料较多流通缓慢的时候,可以通过转动外壳上...