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EUV表膜制造技术
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文档序号:24596927
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一种包括金属硅氧化物层的表膜。还公开一种表膜,该表膜包括钼层、钌层和氮氧化硅层,其中,钼层设置在钌层和氮氧化硅层之间。还公开了:一种制造用于光刻设备的表膜的方法,该方法包括提供金属硅氧化物层;一种光刻组件(LA)包括表膜(15),该表膜包括...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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