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本发明提供了一种功率器件及其制造方法,所述功率器件包括衬底、形成在所述衬底上的绝缘介质层和埋置在绝缘介质层中的浮空场板,所述衬底具有至少一个沟槽,所述沟槽中形成有栅极结构,所述沟槽外围的衬底中形成有体区,所述体区的表层中形成有导电类型与体区...该专利属于中芯集成电路制造(绍兴)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯集成电路制造(绍兴)有限公司授权不得商用。
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本发明提供了一种功率器件及其制造方法,所述功率器件包括衬底、形成在所述衬底上的绝缘介质层和埋置在绝缘介质层中的浮空场板,所述衬底具有至少一个沟槽,所述沟槽中形成有栅极结构,所述沟槽外围的衬底中形成有体区,所述体区的表层中形成有导电类型与体区...