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集成电路(IC)器件制造技术
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文档序号:24584295
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一种集成电路(IC)器件,包括:线结构,包括形成在衬底上的导线和下绝缘覆盖图案;绝缘间隔物,覆盖线结构的侧壁;导电插塞,沿第一水平方向与所述导线间隔开;下绝缘围栏,在第一水平方向上与所述导线间隔开,下绝缘围栏具有与所述导电插塞接触的侧壁;以...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
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