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本实用新型提供了一种组合光罩，所述组合光罩包括至少两个光罩，每个光罩上具有图形，各所述光罩重叠时，各所述光罩上的图形相互间隔，利用所述组合光罩曝光在MCT层上只旋涂一次光刻胶的情况下实现多个光罩的顺序曝光，可以在MCT层上得到理想的孔洞和线...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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