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本发明提供一种薄膜沉积方法及设备，所述方法包括以下步骤：S1，向与反应腔相连的缓冲腔中通入第一前驱体与补充气体，所述补充气体为吹扫气体或第二前驱体，以使所述补充气体与所述第一前驱体在所述缓冲腔中混合，且二者混合后流入所述反应腔；S2，停止向...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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