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非易失性存储器件制造技术
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下载非易失性存储器件的技术资料
文档序号:24502037
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一种非易失性存储器件包括:基板,包括单元区域和外围电路区域;在单元区域上的堆叠结构,该堆叠结构包括彼此分隔并依次堆叠的多个栅极图案;半导体图案,穿过堆叠结构连接到基板;外围电路元件,在外围电路区域上;第一层间绝缘膜,在单元区域和外围电路区域...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
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