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本发明涉及一种具有在线监测功能的化学气相沉积装置，包括：生长腔、位于生长腔内的基片台、位于基片台上的薄膜衬底、位于生长腔内并相对位于薄膜衬底上方的喷淋头、位于生长腔外并用于监测生长于薄膜衬底表面薄膜表面平整度的第一测量装置、位于生长腔外并用...
该专利属于武汉大学所有，仅供学习研究参考，未经过武汉大学授权不得商用。

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