下载半导体器件及其制造方法的技术资料

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一种半导体器件包括:有源图案,位于衬底上,所述有源图案在第一方向上延伸;栅电极,位于所述有源图案上,所述栅电极在与所述第一方向相交的第二方向上延伸,并且包括沿着所述第二方向布置的第一部分和第二部分;第一接触插塞,位于所述栅电极上,所述第一接...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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