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一种半导体器件包括全环栅场效应晶体管(GAA FET)。GAA FET包括由第一半导体材料制成的沟道区,该沟道区设置在由第二半导体材料制成的底部鳍层上方,以及由第三半导体材料制成的源极/漏极区。第一半导体材料是Si...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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