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本发明公开了一种硅片清洗方法，包括步骤：将硅片放入清洗液中进行清洗；其中，所述清洗液包含硫酸、氢氟酸和水；将所述硅片放入纯水中进行清洗；将所述硅片放入酸洗液中进行清洗；其中，所述酸洗液包含氢氟酸、盐酸和水；将所述硅片放入纯水中进行清洗。本发...
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