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一种微影设备包括极紫外(extreme ultraviolet；EUV)扫描器、耦合到EUV扫描器的EUV辐射源、石英晶体微量天平及回馈控制器。石英晶体微量天平设置在EUV辐射源及EUV扫描器中至少一者的内表面上。回馈控制器耦合到石英晶体微...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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