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一种GaN基常关型高电子迁移率晶体管及其制备方法，方法包括：S1，在衬底(10)上依次制备成核层(11)、缓冲层(12)和第一高阻GaN层(13)；S2，在第一高阻GaN层(13)上制备图形化介质层(20)；S3，基于图形化介质层(20)，...
该专利属于中国科学院半导体研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院半导体研究所授权不得商用。

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