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本发明提供了用于在间隙填充中沉积和蚀刻的装置和方法。提供了用于在集成工具中执行沉积和蚀刻工艺的装置和方法。装置可以包括等离子体处理室，其是电容耦合等离子体反应器，等离子体处理室可以包括：包括上电极的喷头和包括下电极的基座。该装置可以配置有R...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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