温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了一种改善光刻机对准的方法，包括：提供一包含对准标记和辅助标记的晶圆，所述对准标记和所述辅助标记设置在所述晶圆的切割道内，所述辅助标记设置在所述对准标记周围，以增加对准标记周围的图形密度；对所述晶圆进行化学机械研磨，且化学机械研磨...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。