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本实用新型实施例涉及半导体技术领域，公开了一种光刻胶清除装置，包括：用于容置光刻胶清洗溶剂的清洗槽，其中，光刻胶清洗溶剂用于清洗待清洗半导体器件；用于向待清洗半导体器件发射超声波的超声波发射器，超声波发射器设置于清洗槽内。本实用新型实施方式...
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