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本发明提供热处理装置和热处理方法。本发明的一个方式的热处理装置包括：收纳基片的处理容器；设置于上述处理容器的周围的加热装置；对上述处理容器与上述加热装置之间的空间吹出冷却流体的多个吹出装置；和开闭件，其同时开闭上述多个吹出装置的至少2个以上...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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