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提供了一种化学液体供应装置和半导体处理装置。在半导体制造工艺期间向处理室供应化学液体的化学液体供应装置可以包括：化学液体供应管，化学液体在其中流动，并且化学液体供应管的通过其喷射化学液体的喷射端延伸到处理室中；设置在化学液体供应管外部的外部...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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