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本文中提供了一种半导体装置及其制造方法。该半导体装置包括设置在栅极层叠物上方的具有顶表面和侧壁的蚀刻停止图案，栅极层叠物具有与导电图案交替地层叠的层间绝缘层。该半导体装置还包括穿过蚀刻停止图案和栅极层叠物的多个沟道结构。该半导体装置还包括延...
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