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本发明涉及半导体工艺技术领域，尤其涉及一种光波导及其制作方法，该方法包括：提供一衬底；在衬底上表面形成第一下包层；在衬底下表面形成第二下包层；在第一下包层上表面形成波导结构；在第一下包层上表面和波导结构上形成第一上包层；在第二下包层下表面形...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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