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超结器件及其制造方法技术
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文档序号:24291410
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本发明公开了一种超结器件,由保护环氧化膜将电流流动区以及终端区的截止区打开,在电流流动区的超结结构的各P型柱的顶部都形成有P型阱;JFET离子注入由保护环氧化膜自对准定义并同时形成JFET区和包围截止区的电场阻挡层;栅极结构采用分栅平面栅结...
该专利属于深圳尚阳通科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳尚阳通科技有限公司授权不得商用。
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