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本发明提供一种具有工艺腔室实时监控功能的半导体制造装置，本发明的实施例的具有工艺腔室实时监控功能的半导体制造装置包括：工艺腔室，利用供应的工艺气体对晶片进行加工处理；送气管道，与所述工艺腔室相连通，用于送入待进行加工用的所述工艺气体；排气管...
该专利属于长鑫存储技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。

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