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该实用新型涉及一种晶圆清洁装置及晶圆清洁系统，能够优化去除晶圆背面的微粒的效果，并且提高晶圆生产的良率。其中，所述晶圆清洁装置包括清洁刷，用于清洁待清洁晶圆背面的杂质，还包括喷淋器，能够朝向所述晶圆喷淋清洗液，所述清洗液具有导电性，能够释放...
该专利属于长鑫存储技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。

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