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用于高级集成电路结构制造的鳍状物图案化制造技术
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下载用于高级集成电路结构制造的鳍状物图案化的技术资料
文档序号:24255030
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本公开的实施例在高级集成电路结构制造的领域中,并且特别是在10纳米节点和更小的集成电路结构制造以及所得到的结构的领域中。在示例中,集成电路结构包括沿第一方向具有最长尺寸的第一多个半导体鳍状物。第一多个半导体鳍状物中的相邻的个体半导体鳍状物在...
该专利属于英特尔公司所有,仅供学习研究参考,未经过英特尔公司授权不得商用。
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