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本发明提供一种真空处理装置。该真空处理装置包括：受热部件，其具有接收来自热源的热的受热面；和供致冷剂流通的致冷剂流路，其沿受热面形成于受热部件的内部，致冷剂流路在与配置于受热面侧的第一内壁面交叉的一对第二内壁面具有第一槽部，该第一槽部在相对...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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