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本申请涉及半导体制作技术领域，具体而言，涉及一种集成电路的波浪形图案的形成方法、集成电路的波浪形图案及集成电路，其中，此波浪形图案的形成方法包括：在基底上形成第一图案和第二图案，第一图案包括多个在第一方向上间隔排布的第一条形图案，第二图案包...
该专利属于长鑫存储技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。

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