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本实用新型涉及化学机械抛光后处理技术领域，公开了一种用于化学机械抛光的承载头及化学机械抛光设备，包括连轴盘、平衡架、承载盘、柔性膜，所述平衡架具有中轴部以及形成于中轴部底端的底盘部，所述中轴部可滑动地设置于连轴盘的中心通孔内并且所述底盘部连...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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