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提供了一种用于光束的高级充电控制的系统和方法。该系统包括：激光源，包括用于发射束的激光二极管；以及束均匀器，用于均匀所发射的束。系统和方法还包括：束成形器，被配置为使用变形棱镜组对发射的束进行整形；以及驱动器，被配置为将成形的束引导到晶圆上...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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