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文档序号:24178570
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在一实施方式的成膜方法在基片载置于支承台上的状态下被执行。该成膜方法包括:从气体供给部向腔室主体的内部空间供给包含前体的前体气体的步骤;从气体供给部向内部空间供给反应性气体的步骤;生成反应性气体的等离子体以增强前体与反应性气体的反应的步骤。...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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